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噴金儀

  • 更新日期:2025-03-05     瀏覽次數(shù):1502
    •   噴金儀是在封閉腔室中,放置陽極靶材,充入氣體,保持一定的真空度,在陽極和陰極之間加載高壓,會發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會轟擊、侵蝕陽極靶材。靶材原子會因此向四周擴散,并在樣品上沉積,最終在樣品表面形成一個均勻的鍍層。這個鍍層可以抑制荷電,減小熱損傷,提高二次電子產(chǎn)率,從而改善掃描電鏡觀察效果。
       
        噴金儀的功能特點:
       
        1、通過高效低壓直流磁控頭進行冷態(tài)精細的噴鍍過程,避免樣品表面受損。
       
        2、操作容易快捷,控制的參數(shù)包括放氣以及氬氣換氣控制。
       
        3、可用MTM-10高分辨膜厚控制儀(選件)精確測定所鍍膜的厚度。
       
        4、數(shù)字化的噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氬氣壓力影響,可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。
       
        5、可使用多種金屬靶材:Au,Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶為標配),靶材更換快速方便。
       
        噴金儀選擇合適的氣體以及靶材,就可以用來為掃描電鏡的樣品鍍層。對樣品表面濺射金屬鍍層有以下好處:
       
        (1)減少電子束對樣品的損傷。
       
        (2)提高導熱性能。
       
        (3)減少樣品荷電(提高導電性)。
       
        (4)提高二次電子產(chǎn)率。
       
        (5)減小電子束穿透效應,提高邊緣分辨率。
       
        (6)保護電子束敏感樣品。
       
        然而,為了獲得更細小的晶粒尺寸、更薄的連續(xù)鍍層,有時候也會使用其他靶材(比如鉻)。這些靶材對真空度的要求更高,需要額外配置分子泵方可達到要求。
       
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